激光微刻蝕設(shè)備
- 產(chǎn)品簡介
- 采用帝爾自研光學(xué)勻化技術(shù),實現(xiàn)各類隧穿鈍化層的大面積高精細激光均勻高速蝕刻,廣泛應(yīng)用于各種高效背接觸電池(XBC)的圖形化生產(chǎn),實現(xiàn)光刻技術(shù)的完美替代,助力實現(xiàn)低成本背接觸電池產(chǎn)業(yè)化。
- 產(chǎn)品特點
超快激光加工系統(tǒng)+F-T勻化整形技術(shù),無損消融各種氧化膜、鈍化膜等材料
方形光斑尺寸根據(jù)客戶需求定制,可滿足不同工藝需求
圖形精細化控制技術(shù),保持P/N區(qū)域精準隔離分區(qū)
自研高精度視覺算法,實現(xiàn)高精度定位
高產(chǎn)能,高精度,高均勻性,高穩(wěn)定性
配置多種在線檢測功能,保障產(chǎn)品高良率
模塊化設(shè)計,可根據(jù)客戶需求選配,兼容性強
查看詳情